800℃小型真空/气氛水平式区熔炉(熔区Φ30*6mm,行程200mm)
型号:
OTF-1200-20-ZM
产品概述:
OTF-1200-20-ZM是一款小型的水平式区熔炉,最高温度800℃,加热区6mm。设备配有炉管和密封法兰,可在真空或气氛保护环境下处理样品。此款设备适合各种材料的定向凝固、单晶生长和提纯。
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
电源要求

·AC220V±10%,单相,50/60Hz

·功率:600W


加热模块

·最高工作温度800℃

·加热体内径:30mm

·加热区长度:6mm

·最大升温速率:10℃/min

·控温精度:±1℃

·加热元件:硅钼棒

·功率:200W

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炉管和法兰

·炉管为高纯石英管,尺寸25 O.D(mm)x19 I.D(mm)x600 L(mm)

·配有一套不锈钢密封法兰:

·左法兰带有1/4英寸进气口及不锈钢截止阀和机械压力表,配有KF25快接口用于放置样品(图1)

·右法兰带有1/4英寸出气口及不锈钢截止,配有KF25接口用于连接真空泵(图2)

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     图 1      图 2

区熔机构

·通过精密伺服电机驱动加热炉体移动,对炉管内样品区熔

·电机功率:400W

·移动行程:1mm-200mm

·移动速度:0.5--1000mm/h

·位移精度:1微米

·炉体可自动往复移动,最多循环次数:999



控制面板

·触摸屏控制

·可设置和显示参数:温度、位移、移动速度和往复循环次数

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真空泵(标配中不包含)

·选配机械泵,真空度可以达到10-2ttor

·选配分子泵系统,真空度可以达到10-5ttor

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  机械泵             分子泵

产品尺寸

·850mm(L)*550mm(W)*750mm(H)

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产品质量

·约65kg

应用注意

·为了对材料进行区熔,您可以在进行区熔之前,先通过 CIP 技术将粉末制成实心棒状样品,具体步骤如下所示。

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