| 设备名称型号 | · 射频磁控溅射动态粉末包覆炉 VTC-2RF-C |
| 基本参数 | · 电源：单相AC220V±5% 50HZ · 功率：1.4KW（不含真空泵、水冷机） · 炉体具有旋转和上下摆动功能，摆动角度-4°- +4° |
| 炉管与法兰 | · 炉管材质：高纯石英管（异形） · 尺寸：φ130-φ180*700mm（挡板加长） · 炉管旋转速度：1-10rpm/min，有正反转两种转动方式 · 炉管内可放入物料有效容积≤80ml
左端法兰： · 左端法兰通过快速连接的方式安装了一个磁流体组件，磁流体组件另一端的KF接口连接了一个靶头组件 · 组件中间位置有一铠装接口，接口上安装了一个磁控溅射头，通过旋转接口上的螺母可以调节靶头在炉管内部的距离 · 一个φ6.35mm的双卡套接头为进气口，一个不锈钢针阀控制进气的通断，进气口通过气管与设备左侧面板上的出气口连接，左侧面板上的进气口通过气管与供气系统的出气口连接；安装了一个量程为-0.1-0.15MPa的机械压力表用于观察炉管内压力 右端法兰： · 右端法兰通过快速连接的方式安装了一个磁流体组件，磁流体组件另一端的KF接口连接了不锈钢组件 · 组件上的一个φ8mm的宝塔嘴接头为出气口，一个不锈钢针阀控制出气的通断 · 安装了一个安全泄压阀，当炉管内压力达到上限压力时，安全阀自动打开排气 · 一个KF16接口安装了一个数显防腐真空计 · 一个KF25接口安装了一个手动挡板阀，挡板阀通过不锈钢波纹管与真空系统连接
· 磁流体组件两端安装有支撑架支撑 · 设备两端安装有防护罩 |
| 等离子射频电源 | · 输入电源：220V 3A · 输出功率：0-300W · 输出频率：13.56 MHZ · 冷却方式：设备内部的冷却方式为风冷 · 尺寸：444mm*410mm*128mm（长*宽*高）
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| 靶头与靶材 | · 2英寸磁控溅射头（带有水冷夹层） · 靶材尺寸要求：φ50*（0.1-5）mm厚 · 2英寸磁控溅射头可承受最大射频功率：300W · 适合溅射金、银、铝、铜等金属或氧化物绝缘靶材 · 标配一块铜靶，φ50 *3mm · 靶头带有一定倾斜角度
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| 供气系统（选配） | · 型号：GSL-4Z-LCD · 电源：单相AC220V±5% 50HZ · 功率：23W · 量程：1-100sccm、1-200sccm、1-200sccm、1-500sccm · 精度：±1.5%FS · 重复精度：±0.2%FS · 最大工作压力：≤0.15MPa
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| 真空系统（选配） | · 电源：单相AC220V±5% 50HZ · 功率：1000W · 抽气速率：110L/S · 极限真空度：9*10-5Pa（不带负载） · 额定转速：42300rpm · 前级泵抽气速率：3L/s
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| 水冷设备（选配） | · 型号：CW-5000AI · 工作电压：单相AC220V±5%，50/60HZ · 工作电流：0.6-3.9A · 制冷量：2559Btu/h · 水箱容量：6L · 最大流量：16L/min， · 出入水口：φ12mm快插接头
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| 外形尺寸 | · 设备主体：1560*650*1330mm（长*宽*高） · 供气系统：600*850*700mm（长*宽*高） · 真空系统：600*600*700mm（长*宽*高） · 水冷设备：410*580*465mm（长*宽*高）
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| 重量 | · 约195KG（不含真空系统、水冷等） |
| 质保 | · 一年质保期，终生维护 · 特别提示： 1、耗材部分如石英管、样品坩埚、密封圈等不包含在内 2、因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内 |
| 注意事项 | · 腔室内气压不可高于0.02MPa（相对气压） · 由于气瓶内部气压较高，所以向石英管内通入气体时，气瓶上必须安装减压阀，为了确保安全，建议使用压力低于0.02MPa，建议在本公司选购减压阀，本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加精确安全 · 对于样品加热的实验，不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热，则需时刻关注压力表的示数，若气压表示数大于0.02MPa，必须立刻打开泄气阀，以防意外发生（如炉管破裂，法兰飞出等） · 我们不建议客户使用易燃易爆和有毒的气体，如果客户工艺原因确实需要使用易燃易爆和有毒气体，请客户自行做好相关防护和防爆措施。由于使用易燃易爆和有毒气体而造成的相关问题，本公司概不负责 |
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皖公网安备 34012302000974号
